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Dépôt chimique par vapeur CVD Produits à anneaux de tungstène Semi-conducteurs
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xDétails sur le produit
| Nom | Anneau de tungstène | Poids moléculaire | 183,85 |
|---|---|---|---|
| Point de fusion | °C 3410 | Densité | 19,3 g/cm3 |
| Application du projet | semi-conducteur, déposition en phase vapeur (CVD) | Résistance à la traction | MPA 750 |
| Surligner | Produits à base de tungstène semi-conducteurs,Anneaux de tungstène à semi-conducteurs |
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Description de produit
Dépôt chimique de vapeur CVD Produits de tungstène Anneaux de tungstène semi-conducteurs
Les anneaux de tungstène peuvent être personnalisés en largeur, épaisseur et diamètre de l'anneau.d'une épaisseur n'excédant pas 10 mmNous offrons des anneaux personnalisés avec un tempérament recuit ou dur et répondront aux normes Milspec ou ASTM les plus courantes.En plus des alliages standard, nous sommes spécialisés dans les alliages résistants à la corrosion, les applications à haute température et les formes et formes personnalisées, y compris les dimensions et les fils internes et externes personnalisés.American Elements produit également du tungstène comme tigesLes anneaux de tungstène peuvent être utilisés comme composants dans diverses applications.
Paramètre
|
Poids moléculaire |
183.85 |
|---|---|
|
Apparence |
D'une épaisseur |
|
Point de fusion |
3410 °C |
|
Point d'ébullition |
5900 °C |
|
Densité |
190,3 g/cm3 |
|
Solubilité en H2O |
N/A |
|
Résistance électrique |
50,65 μΩ ·m (27 °C) |
|
électronégativité |
1.7 Paulings |
|
La chaleur de fusion |
350,3 kJ/mol |
|
Chauffage de la vaporisation |
8060,7 kJ/mol |
|
Le rapport de Poisson |
0.28 |
|
Température spécifique |
0.133 J/g mol (20 °C) |
|
Résistance à la traction |
750 MPa |
|
Conductivité thermique |
10,73 W/m K |
|
Expansion thermique |
(25 °C) 4,5 μm·m-1·K-1 |
|
Dureté de Vickers |
3430 MPa |
|
Module de Young |
411 GPa |
Applications dans les anneaux de tungstène
1. largement utilisés dans l'affichage et les applications optiques des semi-conducteurs, de la déposition chimique de vapeur (CVD) et de la déposition physique de vapeur (PVD);
2. utilisés dans la fabrication d'électrodes, d'éléments de chauffage, de boucliers thermiques, de plateaux de frittage, de barres de frittage, de plaques d'empilage, de plaques de base, de cibles de pulvérisation, de creusets dans les applications électroniques et sous vide.
3. peuvent être utilisés comme contacts dans les moteurs de véhicules.
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